摘要 簡要描述：YZD08-2C等離子清洗器廣泛應用于科學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生命醫學、微觀流體學等領域。

摘要 等離子清洗器不僅可以清洗注塑過程中外殼留下的油污，還可以激活塑料外殼表面，增強其包裝印刷、涂層等粘接的實際效果，使外殼上的涂層與基體牢固連接，涂層實際效果非常均勻，外觀更美觀，耐磨性大大提高，長期使用不會出現磨漆現象。

摘要 Harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片

摘要 簡要描述：等離子清洗器YZD08-5C廣泛應用于科學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生命醫學、微觀流體學等領域。

摘要 隨著納米科學的發展，電子探針分析變得越來越具有挑戰性：電子束能量降低，反應氣體使用的增加，保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態和低HC污染水平

摘要 眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室儀器，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。

摘要 簡要描述：等離子清洗器YZD08-2C;*個引進了美國霍尼韋爾真空壓力傳感器使得機器在智能控制下有了可靠的依據;采用艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，稱之為全防腐型;該儀器實現了手動，自動兩種模式任意切換的工作方式

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術，通過相對密閉的腔體內酸蒸汽持續快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術，通過相對密閉的腔體內酸蒸汽持續快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統, 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-3...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統, 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“放電電壓 / 電流: 50-300V / 20...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束離子源,小型號的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 10 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typ...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typical flow）: 2-...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵極離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 250 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流....

摘要上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規格柵極離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 400 mA; 離子動能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.采用雙陰極燈絲和自對準柵極.加熱燈絲產生電...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typical flow）: 2...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量（Typic...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 離子束可聚焦, 平行, 散射.離子束流: 600 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術產生離子, 無需電離...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.離子束流: 800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量（Typical flow）: 10-40 sccm; 壓力...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 離子源, 原廠*.KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 1500 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.離子束可聚焦, 平行, 散射.采用射頻技...

摘要 SQ型酸逆流器皿清洗裝置清洗PFA溶樣罐1）腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實驗級PTFE材質。 （2）加熱系統可按照客戶要求做成節能環保型的硅膠加熱片，功率為350W；或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W

摘要 善準科技等離子清洗機VP-R手動版腔體溫度小于32攝氏度，頻率13.56MHz物理與化學作用俱佳，適用于PDMS鍵合、石墨烯粉末清洗、硅材料親水性處理和高分子材料處理。

摘要 PLUTO-T具有性能穩定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。 **地清除樣品表面的有機污染物。

摘要 真空等離子清洗機 活性增強實驗室設備工業，為真空等離子清洗機。jun工級腔體，真空清洗，進口品質，國產價格，高性價比。

摘要 大氣低溫等離子清洗機 表面增強實驗室工業，為等離子清洗機。德國電路技術，低溫清洗，進口品質，國產價格，高性價比。

摘要真空等離子清洗機產品簡述1、等離子清洗機的結構主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。（A）控制單元 控制單元液晶觸摸屏控制方式。 而控制單元又分為兩個大的部分：1）電源部分：主要電源頻率是13.56MHz、13.56MHz 是需要電源匹配器的2...

摘要等離子清洗機的氣體調壓與使用氣體壓力控制是保證等離子清洗機正常運行的重要參數之一，常見的氣體減壓有：氣瓶減壓器、氣動調壓閥及管道節流閥。氣瓶減壓器是將氣瓶內的高壓氣體減壓為低壓氣體的裝置。等離子清洗機所使用的工藝氣體大多為瓶裝高壓氣體，為保證工藝穩定性及各氣路元件的工...

摘要等離子清洗機介質阻擋放電的研究歷史1 利用介質阻擋（DBD）放電產生臭氧和氮氧化物1857年，Siemens等離子利用同軸的圓筒電極結構的DBD放電產生臭氧；1860年，Andrews將此放電命名為無聲放電（silent discharge）。從1860年到1900年...

摘要等離子清洗與傳統濕法清洗相比有什么優勢等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是...

摘要 等離子設備改善PCB制程中外層線路導致短路造成PCB制程中外層線路導致短路可能的原因：1.乾膜的附著力不佳，造成線間也鍍上銅錫2.乾膜受到刮撞傷造成線路間距鍍上銅錫3.線路電鍍過高產生草菇頭（Mushroom） 現象， 線路無法蝕出。

摘要等離子設備改善PCB板印刷不清問題印制電路板，又稱印刷電路板、印刷線路板，簡稱印制板，英文簡稱PCB（printed circuit board ）或PWB（printed wiring board），以絕緣板為基材，切成一定尺寸，其上至少附有一個導電圖形，并布有孔（...

摘要 等離子設備改善PCB板錫面粗糙可能造成錫面粗糙的原因有：錫面粗糙一般所指的是噴錫板的上錫區產生顆粒狀的外觀，這樣的外觀主要來自于以下原因：1.上錫區表面不潔2.助焊劑不足3.錫槽不純度過高

摘要等離子清洗機可以改變氮化硅層的形貌等離子清洗機可以實現表面清洗、表面活化、表面刻蝕以及表面涂鍍的功能，根據所需處理的材料與目的不同，等離子清洗機可以實現不同的處理效果。等離子清洗機在半導體行業中的應用有等離子刻蝕、顯影、去膠、封裝等。真空等離子清洗機的刻蝕工藝在半導體...

摘要 低溫等離子設備的應用范圍低溫等離子放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體，也叫非平衡態等離子體。

摘要 作為在實驗室中使用的等離子體研發平臺，我們努力嘗試為客戶解決一切可能在實驗活動中遇到的需求。“因為是自己研發的，所以我們知道怎么改！”我們的總工這樣評價我們的研發能力。我們非常樂意傾聽用戶需求，與用戶一起合作，制造出能夠幫助客戶解決問題的設備。

摘要 AAC54酸逆流清洗器采用*技術，通過相對密閉的腔體內酸蒸汽持續快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 經過多年技術創新和積累，PLUTO-M創新性將真空式等離子體技術應用于各種不同領域的研究型操作平臺，除了實現常規清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實現等離子體鍍膜，等離子體合成反應，等離子體純化等功能，*的拓展該設備的應用領域。

摘要Pluto30是專為研發而設計的全功能等離子體系統，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達7個可調節樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模...

摘要 PLUTO-MH型等離子體表面處理系統是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。

摘要等離子技術可以改善PCB板綠漆缺點問題使用等離子技術是不是可以改善PCB板綠漆缺點問題?那么首先需要知道這些都是什么樣的問題。答案是：PCB板線路漏銅、PCB板線路沾金、PCB板印字不清、PCB板印字偏移、PCB板S/M滲入孔內、PCB板PAD沾S/M、PCB板綠漆不...

摘要教您進入等離子體刻蝕，讀懂新科技新時代通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。等離子刻蝕，是王法刻蝕中較常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生...

摘要用于PCB線路板等離子表面處理,*提升等離子清洗機使用真空腔體，在PCB線路板區域中的上電極和下電極之間存在自由傳導路徑，但在膠帶和PCB線路板框架區域中沒有傳導路徑。該環由絕緣的非導電材料制成，而鋁到鋁等離子體傳導路徑被限制在PCB線路板區域。環與膠帶和晶片框之間有...